首页    半导体类产品    高致密反应腔涂层技术 HQ/ ID Coating

高致密反应腔涂层技术 HQ/ ID Coating

先进而独特的高致密涂层工艺技术,应用于半导体先进制程ETCH反应腔的表面涂层,改善Particle状况并提高使用寿命

pro12_img1

 

提升DRY ETCH工艺良率, 采用特殊涂层工艺技术, 提供从原料到制成品的全方位技术服务,并且已经被多家先进半导体客户所验证和量产使用

  • HQ Coating  应用于20nm及以上工艺节点
  • ID Coating 应用于14nm及以下工艺节点

对于Etch生产工艺有良好的particle管理能力以及高抗蚀刻能力,并同时延长使用寿命